微弧氧化是一种在金属表面原位生长陶瓷层的技术，又称微弧等离子体氧化或阳极火花沉积，是一种特殊的阳极氧化。是采用了高电压，大电流的工作方式。以处理过程中样品表面出现火花现象为基本特征，是伴随有电化学、热化学以及等离子化学等多种类型反应同时发生的复杂过程。

　　微弧氧化膜层特性

　　微弧氧化膜具备了阳极氧化膜和陶瓷喷涂层两者的优点：

　　高耐磨性

　　与基体结合力好

　　形状复杂表面上成膜性好

　　处理工艺过程无环境污染

微弧氧化与阳极氧化不同，所需温度范围较宽。一般为10—90度。温度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且温度高，会形成水气。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放，所以液体温度上升较快，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。