微弧氧化的基本原理及膜层特性

微弧氧化技术是一种直接在轻金属表面原位生长陶瓷膜的新技术。其原理是将Al、Mg、Ti等轻金属或其合金置于电解质水溶液中作为阳极，利用电化学方法在该材料的表面产生火花放电斑点，在热化学、等离子体化学和电化学的共同作用下，获得金属氧化物陶瓷层的一种表面改性技术

微弧氧化的放电状态：   

微弧氧化技术特点：

 1）氧化膜具有陶瓷结构特征。 

（2）原位生长。

（3）氧化膜均匀增厚。

（4）无污染：无环保限制元素加入，基本无废水排放。

           制备工艺简单。

（5）表面硬度高，显微硬度在400至1500HV； 

（6）耐磨损性能与硬质合金相当；

（7）耐腐蚀性能：盐雾试验铝合金1000－2000小时 ；镁

         合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

（8）耐热性能：300℃水中淬火35次未见变化，1300℃

          冲击5次不脱落、不龟裂。 

（9）绝缘性能：膜厚不同,表面电阻达  109－12Ω

微弧氧化膜层形貌  截面：微弧氧化陶瓷层与基体以冶金型微熔过渡区连接。

 其组织致密无穿孔，且与基体成明显的微冶金型结合 。此类组织特征大大增强了陶瓷层对基体的防腐蚀保护能力。

表面： 盲孔微区分布 均匀，利于减摩条件下连续油膜的形成，

改善润滑条件，降低摩擦系数，延长使用寿命。对用于制取防腐保护涂层的产品，此类表面状态利于进行封孔或喷粉等后续处理，增强其附着力。